Esau, Danielhttps://orcid.org/0000-0001-8386-1030
[Institut für Angewandte Materialien – Elektrochemische Technologien (IAM-ET1), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)]
Horlick, Samuel Aaron [Horlick, Samuel Aaron]
Tsai, Chen-Yu [Tsai, Chen-Yu]
Weber, Andréhttps://orcid.org/0000-0003-1744-3732
[Institut für Angewandte Materialien – Elektrochemische Technologien (IAM-ET1), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)]
Beitragende:
-
Titel:
Assessing the H2S-induced resistance increase of a Ni/GDC cermet electrode under OCV and cathodic polarization
Weitere Titel:
-
Beschreibung:
(Technical Remarks)
The files contain all datapoints that are displayed in the figures of the manuscript. Additionally, all recorded polarization resistances are included in the files “all_measurements_XXX_cellXX.csv”, which were shown in Figure S2 and S3.
The files contain all datapoints that are displayed in the figures of the manuscript. Additionally, all recorded polarization resistances are included in the files “all_measurements_XXX_cellXX.csv”, which were shown in Figure S2 and S3.
Esau, Daniel; Horlick, Samuel Aaron; Tsai, Chen-Yu; et al.
(2025): Assessing the H2S-induced resistance increase of a Ni/GDC cermet electrode under OCV and cathodic polarization.
Karlsruhe Institute of Technology.
DOI: 10.35097/ze6dcjvbp419wvc4
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